氧化锌怎么调节ph_氧化锌怎么调节ph

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╯﹏╰ 凌玮科技获得实用新型专利授权:“一种制备二氧化硅用的pH检测装置”证券之星消息,根据企查查数据显示凌玮科技(301373)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“一种制备二氧化硅用的pH检测装置”,专利申请号为CN202320868830.0,授权日为2024年2月2日。专利摘要:本实用新型公开了一种制备二氧化硅用的pH检测装置,属于pH检测技术领域,包括p...

北方稀土申请氢氧化钍富集物制备专利,提高生产效率本发明公开了一种氢氧化钍富集物的制备方法,包括如下步骤:1)将浓硫酸稀土精矿焙烧矿的水浸液用氨水调节 pH 值为 2.0～2.5,固液分离,得到第一母液;2)将第一母液用氧化镁调节 pH 值为 4.5～5.3,固液分离,得到固体,即为氢氧化钍富集物。本发明的制备方法在固液分离时,固体容易沉降...

...其改性方法专利,提升改性微纳米铜粉的抗氧化腐蚀性而不损害其导电性本发明的复配缓蚀剂包括抗氧化剂、表面活性剂和 pH 调节剂,所述复配缓蚀剂的 pH 范围为 6～11。改性微纳米铜粉采用本发明提供的复配缓蚀剂进行改性制得,由于复配缓蚀剂具有强还原性,可以有效清除微纳米铜粉表面的高电阻氧化物,提升改性微纳米铜粉的抗氧化腐蚀性而不损害其...

...专利,能够有效刻蚀硅锗基材料,同时避免对氧化硅和氮化硅等的刻蚀金融界2024年7月2日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种蚀刻组合物及其用途“,公开号CN202211718829.6,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种蚀刻组合物,包括氧化剂,含氟化合物,pH调节剂,含氨基硅氧烷化合物...

金禾实业申请高活性氧化镁的制备方法专利,能够制备得到性能优异的...安徽金禾实业股份有限公司申请一项名为“一种高活性氧化镁的制备方法“,公开号CN117208945A,申请日期为2023年9月。专利摘要显示,本发明提供了一种高活性氧化镁的制备方法,涉及镁金属氧化物的合成领域,该制备方法包括以下步骤:(1)调节氯化镁滤液的pH,加入双氧水氧化;所述...

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＞ω＜ 高能环境申请一种化工废水有机物和钼协同耦合去除方法专利,可协同...包括:调节含钼化工有机废水的 pH 至 3‑4;采用含铁催化剂高级氧化工艺对调节 pH 后的含钼化工有机废水进行高级氧化;调节高级氧化反应后的悬浮溶液的 pH 至 4‑5,并进行初级絮凝沉淀,以去除有机物和一级除钼;向初级絮凝沉淀后的上清液中投加三价铁盐沉淀剂,进行二级除钼;继续...

安集科技申请化学机械抛光液及其用途专利,能提高Co/TEOS的选择比...本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒、研磨颗粒稳定剂、腐蚀抑制剂、络合剂、氧化剂、pH调节剂和水。本发明中的一种化学机械抛光液,通过在抛光液中加入合适研磨颗粒稳定剂,抑制TEOS的去除速率,并提高Co/TEOS的选择比,同时减少晶圆表面划伤缺陷数量。本文源自...

安集科技申请化学机械抛光液专利,能够有效改善钴表面的腐蚀情况,...包括研磨颗粒、腐蚀抑制剂、络合剂、表面活性剂、氧化剂、pH调节剂和水。本发明中的化学机械抛光液通过添加合适的炔二醇类非离子表面活性剂,能够有效改善钴表面的腐蚀情况,提高钴的去除速率,显著降低钴的静态腐蚀速率,同时不影响钴的去除速率,满足实际抛光应用需求。本文...

安集科技申请一种化学机械抛光液专利,通过复合使用两种研磨颗粒,该...申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒,催化剂,多元有机酸,氧化剂,氨基酸和pH调节剂。本发明的优势在于:通过符合复合使用两种研磨颗粒,化学机械抛光液具有良好的稳定性,可同时对钨,氮化硅等材料进行高速的化学机械抛光。本文源...

?▽? 安集科技申请化学机械抛光液专利,有效改善抛光后晶圆表面的形貌氧化物研磨颗粒、催化剂、稳定剂、氧化剂和pH调节剂,其中,所述氧化物研磨颗粒表面由有机官能团修饰。本发明中的化学机械抛光液,通过在研磨颗粒表面修饰官能团,能够在不影响抛光液对钨等材料的抛光速率的前提下,有效减少抛光后晶圆表面的缺陷,有效改善抛光后晶圆表面的形貌...